El Método de Rietveld en la Difracción de Rayos X por Cristales Pulverizados.

Que impartirá el Dr. Luis Fuentes Cobas, del CIMAV, Chihuahua,

Del 23 al 27 de noviembre de 1998

En el Amoxcalli de la Facultad de Ciencias UNAM.

Dirigido a estudiantes y profesionistas en las áreas de

Ciencia de Materiales, Química, Física y Ciencias de la Tierra.

 

Temario

Capítulo I : Elementos de Cristalografía

I.1) Cristales, policristales y vidrios.

I.2) Bases, sistemas, celdas, nodos y redes.

I.3) Planos, direcciones y zonas.

I.4) El concepto de simetría.

I.5) Operaciones de simetría posibles en los cristales.

I.6) Grupo factor y grupo puntual.

I.7) Concepto macroscópico de cristal.

I.8) Grupos puntuales ciclicos. Grupos propios e impropios.

I.9) Los grupos puntuales.

I.10) Los grupos especiales.

 

Capítulo II: Difracción de Rayos X.

II.1) Rayos X.

II.2) Ley de Bragg.

II.3)Métodos experimentales de difracción.

II.4)La fórmula de las intensidades.

II.5) Aplicaciones de la DRX.

 

Capítulo III: El método de Rietveld y su Aplicación a Materiales.

III.1) Reseña histórica y estado actual del método de Rietveld.

III.2) Ideas y formalismos básicos.

III..3) Programas para el método Rietveld. Códigos de refinamiento.

III..4) El programa FULLPROF.

III..5) Estrategia de refinamiento.

III..6) Aplicaciones del método Rietveld.