Elementos de Difracción de Rayos X de Alta Resolución

Miguel Ángel Vidal Borbolla, Bulmaro Salazar Hernández y Martha Elena Constantino Gutiérrez. Instituto de Investigación en Comunicación óptica, de la Universidad Autónoma de San Luis Potosí.

 

 

 

1. Introducción
2. Características Principales de un Difractometro de Alta Resolución

2.1 Requerimientos Necesarios de un Difractómetro de Alta Resolución
2.2 Descripción del Monocromador Bartels

3. Propiedades Estructurales de Películas Epitaxiales


3.1 Películas Epitaxiales Seudomórficas
3.2 Películas Parcialmente Relajadas
3.i Películas Distorsionadas Ortorrómbicamente

4. Difractometría en Películas Epitaxiales

4.1 El Espacio Recíproco
4.2 Representación de Películas Epitaxiales en el Espacio Recíproco
4.3 Construcción de Ewald
4.4Criterios Geométricos y Estructurales para la Elección de la Reflexión y el Modo de Barrido

5 Análisis de Curvas de Rotación

5.1 Indexado de Picos de Difracción
5.2 Determinación del Desajuste de Red en Películas Seudomórficas
5.3 Determinación del Desajuste de Red y Grado de Relajación de Películas Parcialmente Relajadas
5.4 Determinación del Desajuste de Red Relajado en Películas Epitaxiales
5.5 Determinación del Espesor de la Película
5.6Cálculo de la Composición Química de una Aleación con un Grado de Libertad
5.7 Cálculo de la Composición Química de una Aleación con Dos Grados de Libertad
5.8 Determinación de la Densidad de Dislocaciones

6 Caracterización de Curvas de Rotación con la Ayuda de Simulación por Computadora.

6.1 Teoría Dinámica de la Difracción
6.2 Aplicaciones de la Simulación por Computadora
6.3 Caracterización de Capas Simples
6.4 La Influencia de Capas Interfaciales
6.5 Caracterización de SupeiTedes

Referencias

 

SMCr. 2004